近日，据媒体报道，世界光刻机制造巨头荷兰ASML公司继台积电、三星之后，正式做出决定，将在今年12月底搬进美国东南部凤凰城钱德勒办公大楼，意在帮助美国提升芯片制造能力，遏制“中国芯”的发展。

然而，事实证明，在世界最聪明的中国科研人员的面前，一切技术封锁都是纸老虎！

随着半导体行业的发展，芯片已成为发展通信、手机、PC、物联网、人工智能等行业的基础，是绝大多数电子产品的核心组成部分，由此可见，掌握先进的芯片技术是多么重要的、紧迫的事情。

芯片虽小，但制造起来却非常不容易，已成为国内企业不得不面对、解决的一个难题。据国家统计局公布的信息显示，截止至2019年，国产芯片自给率不足30％，当年芯片进口量高达3500亿美元，成为我国第一大进口商品。

我国掌握着先进的芯片设计技术、成熟的芯片制程工艺，为何芯片自给率这么低呢？究其原因，国内企业缺少制造芯片的关键设备--光刻机。

目前，光刻机市场被荷兰ASML公司、佳能、尼康等外企垄断，其中，ASML公司垄断着世界上100％EUV光刻机市场，而受美国的影响，尽管表示将加速在我国市场的布局，但就迟迟不愿意向我国企业交付光刻机。

据公开资料显示，国内芯片制造巨头中芯国际早在2018年向ASML公司支付了价值1.2亿美元EUV光刻机的货款，双方约定ASML公司在2019年交付，2020年完成安装。但由于老美从中作梗，ASML公司迟迟未能履行合约。

即便是ASML公司失信中芯国际，双方的合作并未停止，两家公司又在今年3月份签订了价值12亿美元的DUV光刻机采购协议，但至今为止，仍未传出关于这份合约的任何消息。

ASML公司迟迟不按照合同交付光刻机，且已决意赴美，再一次验证了古代先贤传下来的一句话：非我族类，其心必异！

没有ASML公司提供的光刻机，我们就造不出“中国芯”，科技发展就止步于此？答案是肯定的，不可能！

“芯片禁令”出台之后，中科院就曾明确表示，已成立光刻机科研攻关小组，且立下军令状，争取在最短的时间内攻克EUV光刻技术，促进“中国芯”的发展。

作为国内最顶尖的科研圣地，中科院不负众望，在经过近一年紧张有序的科研攻关后，终于取得重大技术突破。

近日，央视正式传来关于国产光刻机的好消息：中科院攻克技术难关，国内首台高能源设备已完成70％以上的安装，弥补了我国辐射光源不足的问题。

除此之外，华卓精科也攻克光刻机领域核心技术--双工件台，已被上海微电子引入，应用到光刻机的生产线上。

对光刻机深入了解的朋友都知道，光刻机是由双工件台系统、EUV光源系统、EUV光学镜头三大核心组成。如今，我国科学家已经完成了双工件台系统、EUV光源系统这两大核心组件的研发，其意味着什么，即便是不说，想必大家都很清楚。

ASML公司首席执行官前不久在接受媒体采访时表示，三年之后，中国就会掌握光刻技术，届时，ASML公司在中国的市场份额或将被剥夺。

在中国光刻技术取得重大突破之际，ASML公司做出赴美的决定，很可能是看到了自己在中国市场三年后的结局。

尽管我国制造出国产EUV光刻机还有很长的一段路要走，但笔者坚信，在我国科学家的努力下，这些难题都不是问题。至于何时能够制造出EUV光刻机，就让我们拭目以待吧！

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